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詳細(xì)摘要： 適用設(shè)備：本產(chǎn)品為海德研磨設(shè)備配套生產(chǎn)，也廣泛適用于進(jìn)口研磨設(shè)備和同行研磨設(shè)備，詳情請(qǐng)咨詢(xún)海德客服人員。

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詳細(xì)摘要： 該系列產(chǎn)品配套于研磨機(jī)、拋光機(jī)用盤(pán)。合成樹(shù)脂銅盤(pán)適用于陶瓷、藍(lán)寶石、水晶、單晶硅片、石英芯片、光學(xué)玻璃、陶瓷片、砷化鎵等薄脆金屬或非金屬材料的研磨。

詳細(xì)摘要： 適用設(shè)備：本產(chǎn)品為海德研磨設(shè)備配套生產(chǎn)，也廣泛適用于進(jìn)口研磨設(shè)備和同行研磨設(shè)備，詳情請(qǐng)咨詢(xún)海德客服人員。

詳細(xì)摘要： 該系列產(chǎn)品配套于研磨機(jī)、拋光機(jī)用盤(pán)，主要適用于單晶硅片、石英芯片、光學(xué)玻璃、陶瓷片、砷化鎵等薄脆金屬或非金屬材料的研磨。

詳細(xì)摘要： 適用設(shè)備：本產(chǎn)品為海德研磨設(shè)備配套生產(chǎn)，也廣泛適用于進(jìn)口研磨設(shè)備和同行研磨設(shè)備，詳情請(qǐng)咨詢(xún)海德客服人員。

詳細(xì)摘要： 氧化鈰研磨盤(pán)

詳細(xì)摘要： 1、 采用相適應(yīng)的配方，達(dá)到研磨工件不同的技術(shù)要求。(材料灰口鑄鐵、球墨鑄鐵)

詳細(xì)摘要： 平行度≤0.02mm　　粗糙度0.1μm——1.2μm　　平面度0.001mm——0.004mm，平行度≤0.002mm，等高≤0.002mm